高純氬氣和普通氬氣是兩種不同的氬氣,它們在用途和性質上存在一定的區(qū)別。高純氬氣的制備過程非常嚴謹,主要用于特殊領域的科研、醫(yī)療、航天、半導體等方面。普通氬氣則是一種普遍應用于工業(yè)、制造等廣泛領域的氣體。本文將從用途、性質和制備方法等角度分析高純氬氣和普通氬氣的不同之處。
一、用途不同
高純氬氣的主要用途是作為半導體材料等電子工業(yè)中的稀有氣體,具有浸染性和惰性強、穩(wěn)定性好、化學性質穩(wěn)定等優(yōu)點。在鋰電池、微電子、光電子等領域有廣泛應用。在航空航天等領域中也有著重要的作用。例如,用于某些特種材料的氧化鋯制備過程中,需要使用純度高達99.9999%的高純氬氣。
而普通氬氣的應用比較廣泛,主要包括氬氣焊接、氣體保護焊、填充氣體等。在工程建設中普遍使用,如用于比較廣泛的氬弧焊,適用于鋼鐵、非鐵材料、銅合金及鋁合金的焊接。
二、氣體性質不同
高純氬氣比普通氬氣的純度更高,一般要求在99.999%以上,且不能含有多余的污染物。同時,高純氬氣具有極低的雜質含量,化學性質和穩(wěn)定性更好。這些性質使得高純氬氣在半導體、航空航天等領域發(fā)揮更重要的作用。高純氬氣是一種高度純凈的稀有氣體,具有無色、無味、無毒等特性。
普通氬氣不需要像高純氬氣那樣特別純凈,其含雜質量比高純氬氣高得多,但是在工業(yè)生產中,普通氬氣具有很好的穩(wěn)定性和強度。
三、制備方法不同
高純氬氣的制備過程,一般采用連續(xù)的精細蒸餾的方法,以去除氬氣中的雜質,從而制備出高純氬氣。
普通氬氣則是通過工業(yè)生產過程中從空氣中提取,然后經過精細的加工、分離工藝處理而來的。
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